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一、依照我国专利法规定，专利分为以下三种：

发明 1. 指利用自然法则之技术思想之创作；所谓「利用自然法则之技术思想之创作」包含方法、构造及装置之创作。
2. 审查方式为实体审查，审查期间约2年至2年半左右。
3. 发明专利提出申请后，将于自申请日起18个月后公开。
4. 专利权期限自申请日起算20年。
新型 1. 指利用自然法则之技术思想，对物品之形状、构造或组合之创作。
2. 审查方式为形式审查，审查期间约4至6个月左右。
3. 专利权期限自申请日起算10年。
设计(新式样) 1. 指对物品之全部或部分之形状、花纹、色彩或其结合，透过视觉诉求之创作。应用于物品之电脑图像及图形化使用者接口，亦得依法申请设计专利。
2. 审查方式为实体审查，审查期间约1年左右。
3. 专利权期限自申请日起算15年。

二、申请专利所需准备资料如下：

1. 申请专利之样品、实物、照片、结构、流程或其图档（以AutoCAD、Solid Works或Pro/E 等绘图软体绘制之2D或3D图档）。
2. 说明相关先前技术（亦可提供样品、实物、相片或图档），即先前技术之问题与缺点（其习知传统设备或作法之缺失，亦为本创作欲加以改良或创新之处）
3. 有关本创作具体结构、方法及其操作方式或流程之实施详细说明，并叙明本创作所达到之优点及功效。
4. 请提供创作人之姓名及身分证字号；若申请人为自然人，请提供申请人之姓名、身分证字号及地址；若申请人为法人机构，请提供申请人之名称、代表人、统一编号及地址。

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